Το ZhenAn βολφραμίου sputtering στοχεύει Κατασκευαστές
Εξερευνήστε το ευρύ φάσμα εφαρμογών των στόχων βολφραμίου
Η ευελιξία των στόχων εκτόξευσης βολφραμίου είναι απεριόριστη.
Στον κόσμο των συσκευών ημιαγωγών, αυτοί οι στόχοι είναι κρίσιμοι για τη δημιουργία διασυνδέσεων, ηλεκτροδίων πύλης και φραγμών διάχυσης.
Η κατασκευή επίπεδων οθονών, ηλιακών κυψελών και μαγνητικών μέσων αποθήκευσης βασίζεται επίσης σε μεγάλο βαθμό στο Tungsten Disulfide SputteringTarget
.
Επιπλέον, η αεροδιαστημική βιομηχανία χρησιμοποιεί αυτούς τους στόχους για να επικαλύψει τα πτερύγια των στροβίλων, ενώ η αυτοκινητοβιομηχανία επωφελείται από ανθεκτικές στη φθορά επιστρώσεις στα εξαρτήματα του κινητήρα.
Ο αντίκτυπος του Target από κράμα τιτανίου βολφραμίου υψηλής καθαρότητας είναι εκτεταμένος.
Απελευθερώστε τα πλεονεκτήματα και τα πλεονεκτήματα τουΣτόχοι βολφραμίου (W) Sputtering
Γιατί ο στόχος βολφραμίου είναι η πρώτη επιλογή για την εναπόθεση λεπτής μεμβράνης;
Τα πλεονεκτήματα είναι πολλά. Πρώτον, το υψηλό σημείο τήξης του βολφραμίου επιτρέπει στα φιλμ να εναποτίθενται σε υψηλές θερμοκρασίες, εξασφαλίζοντας εξαιρετική πρόσφυση και ποιότητα φιλμ.
Δεύτερον, το βολφράμιο έχει εξαιρετική θερμική και ηλεκτρική αγωγιμότητα, καθιστώντας το κύριο υποψήφιο για εφαρμογές που απαιτούν αποτελεσματική απαγωγή θερμότητας ή ηλεκτρική αγωγιμότητα. Επιπλέον, οι στόχοι εκτόξευσης βολφραμίου έχουν υψηλούς ρυθμούς εναπόθεσης, αυξάνοντας έτσι την παραγωγικότητα. Τέλος, οι μεμβράνες βολφραμίου προσφέρουν εξαιρετική σκληρότητα και αντοχή στη φθορά, καθιστώντας τις την τέλεια λύση για εφαρμογές όπου η ανθεκτικότητα είναι κρίσιμη. Με τους στόχους εκτόξευσης βολφραμίου, η ακριβής και αξιόπιστη εναπόθεση λεπτής μεμβράνης γίνεται πραγματικότητα σε διάφορες βιομηχανίες.